盛位科技申请抗饱和电抗器专利显著提升抗饱和能力与能量存储效率

　　

　　国家知识产权局信息显示，盛位科技（合肥）有限公司申请一项名为“一种抗饱和电抗器”的专利，公开号CN121281967A，申请日期为2025年10月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种抗饱和电抗器，属于电抗器技术领域。本发明采用环形磁芯结构，磁芯由软磁材料制成，具有闭合或非闭合磁路，并在磁路路径的至少一个维度上形成连续或准连续的磁性能梯度分布，该梯度表现为磁场强度较高的区域对应材料具有更高的抗饱和能力，而磁场强度较低区域则抗饱和能力相对较弱。方案解决了传统电抗器因依赖气隙或异种材料拼接导致的工艺复杂、漏磁严重、抗饱和能力不足及高频损耗高等问题。本发明一体化成型简化了磁路设计，消除了气隙缺陷，显著提升抗饱和能力与能量存储效率，梯度磁性能与磁场分布自然匹配，减少局部饱和风险，无拼接，提高机械可靠性，高度自动化制备使成本可控且性能稳定，兼顾高磁导率与抗饱和需求。

　　天眼查资料显示，盛位科技（合肥）有限公司，成立于2022年，位于合肥市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本734.8903万人民币。通过天眼查大数据分析，盛位科技（合肥）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目6次，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可12个。

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